根據有關研究報告顯示，半導體清洗設備的市場規(guī)模有望由2020年的74億美元增長到2025年的121億美元，復合增長率達10.3%，遠遠超過半導體設備的復合增長率。可見，未來清洗設備還有很大的增長空間。隨著超純水需求量的增加，微電子產業(yè)的快速發(fā)展，將大大促進超純水工業(yè)的發(fā)展。

　　超純水的品質與半導體的良品率直接相關，在電子元件的生產過程中，不管是清洗用水、溶液、漿料，都要采用超純水。集成電路的生產工藝是蝕刻和清洗反復進行，清洗是半導體加工過程中的一個重要環(huán)節(jié)，其目的就是清洗可能存在于原材料或半成品中的雜質。由于半導體元件體積小、精度高，對超純水水質的技術要求也越來越高，在超純水的生產過程中，只要微粒子、電阻率、TOC以及氣泡中一個指標出現略微差異，都會使半導體元件的合格率下降。

　　超純水是將水中導電介質幾乎完全除去，又能使水中不離解的膠體物質、氣體和有機物去除到非常低程度的水。其電阻率超過18MΩ·cm，接近18.3MΩ·cm極限值。萊特萊德采用獨特的靶向離子交換系統(tǒng)，對超純水中難于處理的硼和其它離子進行定向去除，保證出水硼離子能夠穩(wěn)定≤5ppt。

　　萊特萊德為用戶提供優(yōu)質的超純水，更好的提高了芯片的良品率。萊特萊德超純水系統(tǒng)廣泛應用于電子芯片、集成電路及封裝、二極管、三極管、傳感器、電子級氫氟酸、電子級硫酸、電子級雙氧水、電子級氨水、高精度線路板、光伏、TFT玻璃基板、晶圓、石英管、超白玻璃、科研、航空航天、高精尖儀表、珠寶加工等領域。